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江蘇實為半導體科技有限公司

主營:MOCVD加熱器
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[供應]中山MOCVD加熱器配套設備生產(chǎn)廠家
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  • 更新日期:2016-06-17 08:58:14
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中山MOCVD加熱器配套設備生產(chǎn)廠家 詳細信息

江蘇實為半導體科技有限公司-中山MOCVD加熱器配套設備生產(chǎn)廠家1234a3211 是國內前列的MOCVD等半導體設備的核心部件和耗材供應商。由唐山實為半導體和海外專家陳景升共同投資組建,公司注冊資金2000萬,總部在邳州,并在蘇州設有辦事處。我國的半導體制造業(yè)在近年有了長足發(fā)展,但所使用的設備還主要來自國外,如MOCVD主要從美國和德國進口。1234a3211 VeecoSomitJoshi在“用于提高功率器件性能的硅基氮化鎵MOCVD進展”的演講中表示,新興的中/高電壓應用在電力供應,替代能源以及數(shù)據(jù)中心,都需要更高的功率效率,滿足較高的工作溫度以及更小的系統(tǒng)規(guī)模。氮化硅在這些參數(shù)上遠遠好于硅。1234a3211 由于工藝的嚴苛要求,這些設備在使用過程中有些關鍵部件只有一定壽命,需要定期更換。同時這些部件的技術升級對于提升設備整體的性能非常有效。目前這些備件主要是從國外大量進口,價格昂貴并且技術升級緩慢,國產(chǎn)化替代的需求十分強烈,市場前景非常廣闊。結合我司技術團隊多年在國外從事半導體研發(fā)的經(jīng)驗,通過刻苦攻關,我司填補了國內商用大功率MOCVD加熱器的空白,受到客戶的高度肯定。-中山MOCVD加熱器配套設備生產(chǎn)廠家1234a3211通常MOCVD系統(tǒng)中的晶體生長都是在常壓或低壓(10-100Torr)下通H2的冷壁石英(不銹鋼)反應室中進行,襯底溫度為500-1200℃,用射頻感應加熱石墨基座(襯底基片在石墨基座上方),H2通過溫度可控的液體源鼓泡攜帶金屬有機物到生長區(qū)。1234a3211 摻雜源有兩類,一類是金屬有機化合物,另一類是氫化物,其輸運方法分別與金屬有機化合物源和氫化物源的輸運相同。1234a3211 【云端系統(tǒng)代發(fā)】-中山MOCVD加熱器配套設備生產(chǎn)廠家

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