深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產(chǎn)銷售磁控濺射用的靶材，在PVD中，根據(jù)膜層沉積方法又可以再細分為：蒸發(fā)整鍍、濺射鍍和離子鍍。蒸發(fā)整鍍主要運用于光學和塑膠領域，是真空鍍最早應用的方法。濺射鍍興起主要是在20世紀70年代后期，以磁控鍍膜技術為代表，在大面積鍍幕墻玻璃上面獲得最大的應用，其次是電子線路坂和各種磁介質(zhì)記錄膜層。離子鍍則主要應用于刀具和阻熱膜等，特別是航太發(fā)動機外涂層，必須通過真空電鍍才能獲得理想的耐溫阻熱效果。

深圳眾誠達應用材料科技有限公司生產(chǎn)銷售的AZO靶材，主要有AZO平面靶材和AZO旋轉(zhuǎn)圓柱靶。AZO平面靶為公司早期研發(fā)成果，隨著產(chǎn)業(yè)發(fā)展，公司在AZO平面靶的基礎上，大力研發(fā)成功開發(fā)出AZO旋轉(zhuǎn)靶，成功推向市場并廣泛應用獲得客戶認可。AZO旋轉(zhuǎn)靶材，增大了靶材被刻蝕濺射的面積，提高靶材的利用率，靶材的利用率高，使用時間長，有效減少換靶頻率，減少停機與抽真空的次數(shù)，對于連續(xù)性鍍膜線，大面積鍍膜玻璃，極大地配合企業(yè)提高生產(chǎn)能力、擴大市場份額，獲取規(guī)模效益，保持長期競爭優(yōu)勢。